Halbleiterindustrie

Vor dem Hintergrund des ständigen technologischen Fortschritts sind in industriellen Produktionsstätten in zunehmend kürzeren Zeitabständen kapitalintensive Investitionen zu tätigen. Aufgrund von Budgetbeschränkungen ist ein Auswahlprozess anzustoßen, an dessen Ende die Entscheidung für diejenigen Investitionen steht, die dem Unternehmen den größten Mehrwert bieten. Hierzu existieren Investitionsbewertungsverfahren, die die Beurteilung von Investitionsobjekten und einen Vergleich alternativer Investitionen ermöglichen. Auf Basis dieser Verfahren wurde eine Methodik entwickelt, mit deren Hilfe ein Anwender strukturiert durch die verschiedenen Schritte des Investitionsbewertungsprozesses geführt werden kann.

Durch hohe Anschaffungskosten für Maschinen und Anlagen zur Fertigung von Produkten der Halbleiterindustrie ist in den letzten Jahren die Anforderung erwachsen, die Auslas-tung der vorhandenen Anlagen zu steigern und somit Neuinvestitionen zu vermeiden. Von der SEMI-Organisation sind dazu eine Reihe von Standards entworfen worden, durch deren Anwendung eine standardisierte Auswertung der RAM- und OEE-Kennwerte ermöglicht wird. Die Einführung von fabrikweiten Lösungen, auf diesen Methoden aufbauend, erlaubt die ständige Überwachung der Produktivität sowie eine Abschätzung über mögliches Verbesserungspotenzial. Von der Firma AIS Automation Dresden wurde ein solches System entwickelt und wird unter dem Namen TFM - Total Fab Monitoring vertrieben. Der Beitrag beschreibt die Anwendung dieser Software, wobei der Einsatz nicht auf die Halbleiterindustrie beschränkt bleibt.